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镀锌.镀镍.镀银.镀铜等 厚度分析
电镀层技术指标：

A. 元素分析范围从硫(S)到铀(U)；

B、一次可同时分析最多24个元素，五层镀层。

C. 分析检出限可达2ppm，最薄可测试0.005μm

D. 测量时间：100-300秒；

E. 镀层厚度一般在100μm以内(每种材料有所不同)；

F. 能量分辨率 ：149+/-5电子伏特

G. 温度适应范围为15℃至30℃；

H  电脑电源：220+/-5V

I  测量精密度：99.9%（最外层厚度大于1μm的样品）

J  测量准确度：99.9%（最外层厚度大于1μm的样品）

Product Features

1. 采用美国原装电致冷高性能Si-PIN探测器，分辨率高，探测范围宽,涵盖RoHS、卤素、镀层、合金(含贵金属)及各种常规材料分析的基本要求。

Using the original refrigeration high-performance Si-PIN detector, high resolution, wide detection range and covers the RoHS,halogen, plating, alloy (including precious metals) and basic requirements of various kinds of conventional material analysis.

2. 配置国际先进的DPP数字多道信号集成处理器，比普通模拟多道信号处理器性能更佳，尤其在高计数率时有更好的分辨力(如Hg和Cl等)，高达80MHz的数据传输速度使分析时间更短，测量重复性和长期稳定性更好。

Configuring the international most advanced DPP with digital integrated multichannel signal processor. Multi-channel signal processor performance is better than the general simulation, especially in the high count rate has better resolution (such as Hg and Cl). The speed of the data transmission up to 80 MHZ make the analysis time shorter, repeatability better and long-term stability.

3. 内置高清摄像系统，清晰观察样品，准确定位样品测试区域。

Built-in high-definition camera system,  observe the sample clearly and locate sample test area accurately.

4. 配套最新的FP测量软件，集成多种谱图处理算法和基体校正算法，有效降低仪器测量中的各种干扰谱峰，使低含量和痕量元素的检测结果更加准确，更加接近真值水平。

Configuring the latest FP measuring software, integrate variety of spectrogram processing algorithm and matrix correction algorithm, can reduce the various interference spectrum peak  in the instrument measuring effectively, to make low content and trace elements test results more accurate, more close to the true value

技术参数:

Specifications

1. 分析范围:硫（S）－铀（U）

  Measurable elements：S-U

2. 含量范围:2ppm-99.99％

  Element content: 2ppm-99.99％

3. 测量时间:50-300秒(可调)

  Measurement time 50-300s（adjustable）

4. 能量分辨率:149±5eV

  Resolution: 149±5eV

5. 高压电源功率:50W

  High voltage power supply power：50W

6. 样品腔尺寸: 610mm×320mm×100mm

Sample chamber size : 610mm×320mm×100mm

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可以测试镀层厚度（镀锌  镀铜  镀镍等）